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真空镀膜和guang学镀膜有shi么区别
- 2019-11-05-

一、概念的区别

1、真空镀膜是指在gao真空的条件下加rejin属或非jin属cai料,使qi蒸发bing凝结yu镀件(jin属、bandao体或绝缘体)表面erxing成薄膜的一种方法。例如,真空镀铝、真空镀铬deng。

2、guang学镀膜是指在guang学零件表面上镀上一层(或多层)jin属(或介质)薄膜的工艺过程。在guang学零件表面镀膜的目的是为了达到减shao或增加guang的反射、分束、分色、lvguang、pian振deng要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。

二、原理的区别

1、真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,bing吸收电子束、分子束、离子束、deng离子束、射频和磁控deng一系liexin技术,为科学研究和蔰ao噬醙ong薄膜制bei的一謟hong鹿ひ铡<虻サ厮担谡婵誾hongbajin属、合jin或化合物进行蒸发或溅射,使qi在被tu覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固bing沉积的方法。


2、guang的gan涉在薄膜guang学zhong广泛应用。guang学薄膜技术的普bian方法是借zhu真空溅射的方式在bo璃基板上tu镀薄膜,一ban用来控制基板对ru射guang束的反射率和tou过率,以满zu不同的需要。为了消除guang学零件表面的反射sun失,提gao成像质量,tu镀一层或多层tou明介质膜,称为增tou膜或减反射膜。

随着激guang技术的发展,对膜层的反射率和tou过率有不同的要求,促进了多层gao反射膜簍u韉ai增tou膜的发展。为ge种应用需要,利用gao反射膜制zaopian振反guang膜、彩色分guang膜、冷guang膜和gan涉lvguang片deng。guang学零件表面镀膜后,guang在膜层层上多次反射和蚲an洌瑇ing成多guang束gan涉,控制膜层的折射率和厚度,可以得到不同的强度分布,这是gan涉镀膜的基本原理。

三、方法和cai料的区别

1、真空镀膜的方法cai料:

(1)真空蒸镀:将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室,chou空后将膜料加re到gao温,使蒸气达到约13.3Paer使蒸气分子飞到基体表面,凝结er成薄膜。

(2)阴ji溅射镀:将需镀膜的基体放在阴ji对面,ba惰性气体(如氩)通ru已chou空的室内,bao持压强约1.33~13.3Pa,ran后将阴ji接上2000V的zhi流电源,便激发辉guang放电,dai正电的氩离子zhuangji阴ji,使qi射出原子,溅射出的原子通过惰性气fen沉积到基体上xing成膜。

(3)化学气相沉积:通过re分jie所选定的jin属化合物或有机化合物,获得沉积薄膜的过程。

(4)离子镀:实质上离子镀系真空蒸镀和阴ji溅射镀的有机结合,兼有两zhe的工艺特点。表6-9lie出了ge种镀膜方法的优缺点。

2、guang学镀膜方法cai料

(1)氟化镁:无色四方晶系粉末,纯度gao,用qi制guang学镀膜可提gaotou过率,不出崩点。

(2)二氧化硅:无色tou明晶体,rong点gao,ying度大,化学稳定性好。纯度gao,用qi制beigao质量Si02镀膜,蒸发状态好,不出蟴hi赖恪n使用要求分为紫外、红外及可见guang用。

(3)氧化锆:白色重质结晶态,具有gao的折射率和naigao温性neng,化学性质稳定,纯度gao,用qi制beigao质量氧化锆镀膜,不出崩点。


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